غشاهای لایه نازک کامپوزیتی پلی آکریلیک اسید به روش پلیمریزاسیون سطحی مونومر آکریلیک اسید بر روی زیر لایه پلی اترسولفون ساخته و به منظور نمکزدایی از آب طی فرآیند اسمز مستقیم بکار گرفته شدند. غشا نگهدارنده بر پایه پلی اترسولوفون با کمک روش جدایش فازی ساخته شد. به منظور تامین دوام لایه نازک در برابر انحلال لایه نازک پلی آکریلیک اسیدی در محیطی آبی، پیوند دهنده عرضی اتیلن گلیکول به محلول پلیمریزاسیون افزوده و همچنین از غشا پایه کامپوزیتی پلی اترسولفون/پلی آکریلیک اسید به جای غشا پلی اترسولفون متداول استفاده گردید. طیف سنج مادون قرمز تبدیل فوریه غشا نگهدارنده به خوبی حضور پلیمر آکریلیک اسید در ساختار غشا پایه پلی اترسولفون رو اثبات نمود. به منظور بررسی خواص و ساختار غشاهای تهیه شده از تصاویر سطحی و مقطع عرضی میکروسکوپ الکترونی روبشی و دستگاه اندازه گیری زاویه تماس آب استفاده شد و عملکرد غشاها در نمکزدایی از آب نیز با بررسی دو پارامتر میزان تراوش پذیری آب و شار نمک برگشتی مورد ارزیابی قرار گرفت. حضور پلی آکریلیک اسید در لایه محافظ باعث چسبندگی بهتر لایه نازک بر روی پایه و در نتیجه پایداری غشا و بهبود عملکرد گردید.
